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  • 中机半导体材料取得碳化硅衬底减薄用2000目减薄砂轮制备方法专利:砂轮

    中机半导体材料取得碳化硅衬底减薄用2000目减薄砂轮制备方法专利:砂轮

    新闻资讯 # 方法专 # 2000方法专 # 2000 # 砂轮

    国家知识产权局信息显示,中机半导体材料(深圳)有限公司取得一项名为“一种用于碳化硅衬底减薄用的2000目减薄砂轮的制备方法”的专利,授权公告号CN118905965B,申请日期为2024年9月砂轮

    2025-12-23
  • 中机半导体取得碳化硅衬底减薄用2000目减薄砂轮制备方法专利:砂轮

    中机半导体取得碳化硅衬底减薄用2000目减薄砂轮制备方法专利:砂轮

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    2025-12-23
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